USHIO 172nm紫外线技术——PFAS无害化分解的创新方案

更新时间：2026-06-11

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全氟和多氟烷基化合物（PFAS）因其高的化学稳定性和生物累积性，是当前全球环境治理面临的重大挑战。日本USHIO开发出一项无需使用催化剂或化学添加剂、仅利用光在单一反应器中即可分解PFOS和PFOA等代表性PFAS物质并将其无害化的突破性技术。

该技术的核心采用USHIO 172nm波长准分子灯作为光源。172nm深紫外光具有高的光子能量（约7.2eV），可打破PFAS分子中强的碳-氟键（C-F键键能约5.5eV）。通过172nm紫外线的照射，协同产生的羟基自由基（·OH）和水合电子的能量，实现对PFOA和PFOS的高效分解。实验数据表明，即使针对高浓度（mg/L级别）的PFOA和PFOS污染物，仍可在一定时间内达到99%以上的分解效率。

该工艺可在室温、常压下进行，无需任何燃料、催化剂或化学添加剂，仅使用光和电能即可完成分解，是一种真正清洁的环境修复技术。分解过程中不易产生意料之外的氟化合物，并可分解短链PFAS分子，最终生成HF、H⁺和F⁻等无机产物，可通过氢氧化钙处理转化为可利用的氟化钙。目前，USHIO正将该技术与PFAS浓縮技术相结合以提高分解效率，计划于2026年投入实证实验，并在2027年实现新技术的商业化目标。此项技术的成功将为化工行业PFAS污染治理提供一条全新的技术路径。