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新品发布!!壶坂电机TSUBOSAKA UVL-3型 紫外线曝光装置

更新时间:2026-02-27      浏览次数:111

 新品发布!!壶坂电机TSUBOSAKA UVL-3型 紫外线曝光装置

 新品发布!!壶坂电机TSUBOSAKA UVL-3型 紫外线曝光装置


近期我司新推出壶坂电机TSUBOSAKA UVL-3型 紫外线曝光装置



  • 用于光刻工艺的简易曝光和印刷装置

  • 由于其桌面式和一体化设计,因此节省空间。

  • 配备彩色液晶显示屏和十字键

  • 精确控制照射时间

【操作步骤】
1. 打开电源并点亮灯。2
. 待灯稳定后,调整并记录辐照度。3
. 设置曝光时间
(曝光量显示为辐照度 x 时间)。4
. 曝光
。 自动曝光时,快门自动开启和关闭。
手动曝光时,手动开启和关闭快门,同时监控曝光量。

产品名称紫外线曝光设备
产品名称紫外线曝光设备
模型UVL-3
光源250瓦超高压汞灯
辐照度 [mW/cm2]常用剂量:20-22;
最大剂量:24
照度面积(宽x高)[毫米]照射范围:φ155
有效范围:φ113 毫米
照明均匀性 [± %]在有效区域 8 内
显示/操作・主机操作
・外部通信控制
接触时间0.1 - 99.9(最多 99 小时)
样品阶段固定式/带平面微调机构
样品尺寸 [mm x mm]100 x 100
通信接口接口:USB 2.0 Type-B;
通信方式:通过虚拟 COM 端口进行 UART 通信
电源电压交流100伏 50/60赫兹
功耗 [VA]450
运行环境温度:5-35°C;
湿度:80%或以下(无冷凝)
尺寸(宽x高x深)[毫米]422.5毫米(宽)x 781毫米(高)x 357毫米(深)(不含突出部分)
体重[公斤]30
扩展【选项】
・辐照度更改(更改为 20 或更低)
・曝光掩模兼容性(添加掩模支架和样品托盘)
【自定义】
・样品尺寸更改(可自定义,因为辐照范围也会随之更改)



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